无刻蚀电子束光刻

Wang, Xiaohan; Dai, Xiao; Wang, Hao; Wang, Jiong; Chen, Qi; Chen, Fengnan; Yi, Qinghua; Tang, Rujun; Gao, Liang; Ma, Liang; Wang, Chen; Wang, Xiangyi; He, Guanglong; Fei, Yue; Guan, Yanqiu; Zhang, Biao; Dai, Yue; Tu, Xuecou; Zhang, Lijian; Zhang, Labao; Zou, Guifu

无刻蚀电子束光刻

全水直写半导体

免去干法刻蚀或剥离，电子束在纯水溶液中直接把各类半导体纳米图形写进硅片。

Wang, Xiaohan · 戴晓 · 王昊 · 汪炯 · 陈棋 · Chen, Fengnan · Yi, Qinghua · 汤如俊 · Gao, Liang · 马亮 · Wang, Chen · Wang, Xiangyi · He, Guanglong · Fei, Yue · Guan, Yanqiu · Zhang, Biao · Dai, Yue · 涂学凑 · 张利剑 · 张蜡宝 · 邹贵付

ACS Nano 2023

具体参数

氧化锌图形线宽: {'zh': '18', 'en': ''} nm
迁移率: {'zh': '3.94', 'en': ''} cm2 V-1

技术优势

全水溶液体系直接打印金属氧化物、硫化物、氮化物等半导体