锡污染原位清洗工艺

低温等离子无损去污

利用氢等离子体离子热效应原位清除光学镜面锡污染，避免传统清洗造成的结构损伤

Wang, Sishu · 叶宗标 · Wu, Andong · 韦建军 · Gou, Fujun

Vacuum 2025

具体参数

离子能量

{'zh': '23–40', 'en': '23–40'} eV

锡的离子热效应

{'zh': '307.2', 'en': '307.2'} kJ mol⁻¹

锡熔化焓

{'zh': '7.08', 'en': '7.08'} kJ mol⁻¹

技术优势

原位无损

清洗直接在真空腔内完成，无需拆卸光学元件，且等离子体只熔化锡而不损伤基底RuO₂/Si。

机理明确

通过排除实验和离子能量诊断，确认离子热效应（307.2 kJ mol⁻¹远超锡熔化焓7.08 kJ mol⁻¹）是形态变化的主因。

应用场景

• 极紫外光刻：在线恢复极紫外光收集镜反射率，避免停产拆洗。
• 光学薄膜：去除锡污染而不损伤膜层，延长光学薄膜使用寿命。
• 真空设备维护：不破真空即可清理锡沉积，减少设备维护停机时间。