TiO₂保护层
抗氢等离子体,自除锡污染
与现有Ru/RuO₂保护层不同,TiO₂对锡沾污吸附极弱且阻氢性强,可在无损功率下彻底清除污染物,显著延长EUV反射镜寿命。
叶宗标 · Wu, Andong · 高涛 · 韦建军
Nanoscale 2026
具体参数
- Sn吸附能
- {'zh': '0.11', 'en': '0.11'} eV
- Sn清除时间
- {'zh': '8', 'en': '8'} h
- 氢扩散势垒
- {'zh': '1.57', 'en': '1.57'} eV
- 氢吸附能
- {'zh': '+0.34', 'en': '+0.34'} eV
技术优势
Sn不粘
TiO2对Sn的化学吸附极弱(0.11 eV),远低于Ru和RuO2,使污染物易于物理溅射清除而非化学键合残留。
不惧氢
氢在TiO2表面为吸热吸附(+0.34 eV),扩散势垒高达1.57 eV,且具有优异的抗还原性,避免氢渗入和材料退化。
应用场景
- EUV反射镜:替代现有Ru/RuO2保护层,直接在氢等离子体清洗中延长镜面寿命。
- EUV光刻机:维持高反射率与良率,减少因镜面污染导致的停机维护。
- 等离子体腔室组件:以阻氢和抗还原性保护腔体内壁,避免等离子体环境退化。