光刻负载均衡调度算法

产线负载更均衡

一种面向多机组光刻区的调度算法，通过集成K均值聚类的分布估计策略，在复杂加工约束下实现设备间工时的均衡分配。

Liangchao, Chen · Qiao, Yan · Wu, Naiqi · Ghahramani, Mohammadhossein H. · YongHua, Shao · SiJun, Zhan

IEEE Transactions on Systems, Man, and Cybernetics: Systems 2025

技术优势

负载更均衡

算法以最小化光刻机最长与最短工时之差为目标，有效均衡各机器的工作负载。

大规模也能解

提出的估计分布算法集成了K均值聚类，能高效求解中大规模问题。

优于对比算法

对比结果表明，该方法在不同规模问题上均优于所比较的算法。

应用场景

• 半导体晶圆制造：提升光刻区设备利用率与生产节拍。
• 生产排程优化：替代手工排程，生成均衡各机台工时的作业计划。
• 设备负载管理：动态均衡多机组光刻机的工时分配。
• 工业数据分析：利用聚类与分布估计算法从调度数据中挖掘高效排程模式。