含咔唑底部抗反射涂层

248nm稳定消光

通过骨架与咔唑含量调节，实现248nm波长下光学常数稳定，适用于KrF光刻底部抗反射。

Linxiang, Yu · Qi, Zhan · Chunhao, Feng · Yu, Xiao · 王涛

Progress in Organic Coatings 2026

具体参数

表面粗糙度

2 nm

5%热分解温度

288 °C

技术优势

表面粗糙度低

涂层表面粗糙度低至±2 nm，有利于后续光刻胶的均匀涂布和图案保真度。

热稳定性高

T5%达288 °C，能在光刻工艺的高温步骤中保持性能稳定。

应用场景

• KrF光刻工艺：抑制驻波和底部缺陷，提高KrF光刻图形质量。
• 微纳制造：为微纳结构加工提供稳定的底部抗反射层。