电控液晶动态光掩模

图案可重构

无需更换掩模，一块动态光掩模即可在单次曝光中制备多形态微结构，并可层层叠加形成复杂形貌。

Liu, Mengjun · 杨瑞枝 · Guo, Zhenghao · Chen, Kexu · Feng, Haoqiang · 卢涵 · Huang, Shijian · 张敏敏 · 叶华朋 · 水玲玲

Nature Communications 2024

具体参数

特征尺寸缩小倍数

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技术优势

一次曝光多种图案

无需更换掩模即可在同一光刻步骤中产生多种微结构，简化了多次对准工艺。

图案可现场重构

通过电刺激改变液晶取向，可在原位切换衍射图形，避免了重新制造掩模版。

特征尺寸缩小约3.2倍

所得结构比电极图形更精细，可直接用于高分辨率微纳制造。

兼容标准光刻工艺

图案可直接转移至硅晶圆，无需改动现有光刻流程。

应用场景

• 微纳制造：提供无需掩模交换的快速图案化方案，降低多步工艺的复杂度和成本。
• 光刻：动态光掩模可替代传统静态掩模，实现单次曝光制备多级结构。
• 超材料制备：可设计多样化微结构，为超材料提供灵活可控的制备途径。
• 微结构光学：高度渐变与多层结构适用于微光学元件的加工。