GA-APSO混合算法

光刻源掩模优化提速四倍

遗传算法与自适应粒子群优化结合的混合优化算法，用于光刻光源和掩模的逆向优化，在保证精度的同时显著提升计算效率。

刘俊伯 · Ji, Zhou · Sun, Haifeng · Jin, Chuan · 王健 · 胡松

Photonics 2023

参数信息

图案误差降低（相对GA）

40.13–52.94 %

图案误差降低（相对APSO）

10.28–33.31 %

时间成本降低（相对GA）

75.91–87.00 %

时间成本降低（相对APSO）

48.43–58.66 %

技术优势

优化时间大幅缩短

结合GA和PSO，提升计算效率，时间成本降低75.91–87.00%。

结果稳定可重复

重复计算表明GA-APSO结果相对稳定，具有较好的可重复性。

应用场景

• 光刻制造：用于光刻工艺中的光源掩模优化，提升成像质量。
• 计算芯片：用于计算芯片制造中的光刻工艺。
• micro-LED显示：用于micro-LED显示制造中的光刻步骤。
• 增材制造与微纳制造：用于增材制造与微纳制造中的光刻图案优化。