SwinT-ILT掩码优化模型

0.5秒完成掩码优化

一种基于Swin Transformer的端到端ILT模型，在保证掩码可制造性的同时将优化时间大幅缩短。

徐辉 · Pan, Qi · Fuxin, Tang · Ma, Ruijun · 梁华国 · 黄正峰 · Wen, Xiaoqing

Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS 2024

参数信息

优化时间

0.5 s

技术优势

速度快

端到端掩码优化仅需 0.5 秒，大幅缩短半导体制造周期。

质量好

同时保持出色的掩码可制造性，满足工业界对掩码质量的要求。

收敛快

通过引入成像系统的领域知识设计训练目标，加速模型收敛。

应用场景

• 计算光刻：将掩码优化时间缩短到 0.5 秒，大幅提升计算光刻流程效率。
• 掩模版优化：端到端模型直接输出优化掩码，替代传统迭代优化流程。
• 分辨率增强技术：作为 ILT 的加速方案，可集成到现有 RET 流程中。
• 半导体制造工艺：缩短掩码制备周期，降低半导体制造时间成本。