高流动亚音速射流装置

近真空射流核心延长

针对近真空环境优化设计的射流实验装置，通过PIV/PTV测量揭示了射流核心区的显著延长与平顶速度分布，其流动特性可直接用于指导EUV光刻等真空设备的污染控制设计。

陈鑫 · Liu, Fangyuan · 王宇泽 · Si-Yu, Zhang · Qingxiang, Li · Wu, Jianzhao · 王伯福 · Chong, Kai Leong · Cheng, Wang · Jian-Hua, Zhang · Quan, Zhou

Science China: Physics, Mechanics and Astronomy 2025

参数信息

入口流量

0.28 SLPM

环境压力

13.9 Pa

技术优势

核心区延长

在0.28 SLPM、13.9 Pa下，射流核心区显著延长，意味着射流在更远距离上保持高速度，能更有效地将碎屑带离收集镜。

平顶速度分布

观察到平顶速度分布，射流横截面上速度均匀，有利于均匀清除污染物，避免局部沉积。

参数影响明确

研究了入口流量、环境压力和射流直径对中心线速度的影响，为真空设备中射流设计提供了直接依据。

应用场景

• EUV光刻：用近真空射流带走锡碎屑，保护收集镜。
• 真空设备：为真空设备中的射流设计提供流动数据。
• 射流控制：通过调节入口流量、环境压力和射流直径控制射流速度。