超图卷积OPC掩模

光刻效率保真双提升

用模型驱动的超图卷积网络同时提升光学邻近校正的计算效率和光刻图像保真度，并在DMD无掩模光刻平台上完成实验验证。

Zhang, Shengen · 马旭 · Chaojun, Huang · Fuli, Wang · Arce, Gonzalo R.

Optics and Laser Technology 2025

技术优势

实验验证优于传统OPC

计算效率显著提升