大面积光刻胶薄膜

均匀性±1.5%

在1.6米级矩形基板上实现超薄光刻胶薄膜的全球最大有效涂覆面积，同时均匀性达到±1.5%，为百拍瓦级激光器的脉宽压缩光栅提供实用制备路径。

Liu, Qiuyu · Xingang, Zhang · 晋云霞 · Yunkun, Wang · Zhu, Wang · 周平

Results in Engineering 2026

参数信息

有效涂覆面积

1584 mm × 1035 mm

平均膜厚

234.6 nm

厚度均匀性

1.5 %

峰谷厚度变化

6.9 nm

技术优势

全球最大有效涂覆面积

在1620 mm × 1070 mm矩形基板上实现1584 mm × 1035 mm的有效涂覆区域，突破了以往旋涂薄膜的尺寸限制，可直接用于米级光栅制备。

薄膜极均匀

在有效面积内厚度均匀性达±1.5%，峰谷厚度变化仅6.9 nm，满足高精度光栅图案转移对膜厚一致性的苛刻要求。

工艺可重复

多次涂覆结果表明该策略具有可重复性，为超重、超大基板的批量涂布提供了可行方案。

应用场景

• 大口径光学制造：为米级光学元件提供均匀光刻胶涂层，支撑后续精密加工。
• 脉宽压缩光栅制备：作为大面积光栅图案转移的基底，满足百拍瓦激光需求。
• 大面积微纳加工：实现米级基板上的均匀超薄膜，用于微纳结构图形化。
• 光刻胶涂布工艺：提供低速旋涂与气氛调控的工艺方案，可推广至超重基板。