液态碳源金刚石薄膜

掺杂均匀，生长更快

以液态碳源前驱体在金刚石表面实现了B、N、Si的均匀掺杂，避免了气态前驱体掺杂失败的问题，并且生长速率更高。

Lu, Ming · Zhang, Chuan · Dongdong, Liu · 王新昶 · 孙方宏

Applied Surface Science 2023

技术优势

掺得进氮

用氮气和甲烷前驱体制备的金刚石薄膜中未检测到掺杂元素，而液态路线实现了 N 的掺杂且分布均匀。

长得更快

以丙酮为前驱体的金刚石生长速率高于以甲烷为前驱体。

三种元素一次掺匀

B、N、Si 三种元素均被掺杂进金刚石薄膜且分布均匀。

应用场景

• 金刚石涂层刀具：更快的生长速率降低涂层成本。
• 掺杂金刚石电极：均匀掺杂的 B、N、Si 赋予可控电导率和电化学活性。
• 半导体金刚石衬底：实现 n 型金刚石的关键 N 掺杂成为可能。
• 金刚石传感器：通过掺杂不同元素调节金刚石的传感特性。