二维优化梯形自卷积窗口

对准精度1.86 nm

通过优化梯形卷积设计，抑制频谱泄漏，显著提升莫尔条纹相位提取精度。

Feifan, Xu · 潘成亮 · 张进 · 李维诗 · 夏豪杰

Mechanical Systems and Signal Processing 2025

参数信息

主瓣宽度

6.89 π/N

峰值旁瓣电平

-31.6 dB

对准精度

1.86 nm

技术优势

频谱泄漏抑制强

通过优化梯形窗的自卷积，峰值旁瓣电平降至−31.6 dB，显著减少频谱泄漏。

主瓣更窄

主瓣宽度仅为6.89π/N，提高了频率分辨率。

对准精度达1.86 nm

仿真和实验表明相位提取精度显著提升，对准精度达到亚2纳米级别。

应用场景

• 光刻对准：用于莫尔条纹相位分析，将光刻对准精度提升至亚2纳米，支撑下一代光刻。
• 精密测量：在需要高精度相位提取的测量任务中，用该窗口提高精度。
• 微纳制造：为微纳制造中的精密对准提供算法支撑。