边缘掺杂MoS₂

阈值电压可调到反转

通过氧化蚀刻在边缘束缚氧掺杂,实现对MoS₂场效应晶体管电学特性的确定性调控,可从n型连续调至p型。

Ying-Ying, Zhang · Tianxiang, Zhao · Pengcheng, Wang · 刘雁雨 · Wang, Junjia · Li, Liyi · Zhang, Bo · 李德军 · Luo, Birong

Small 2026

技术优势

掺杂只在边缘

氧和氧化物优先结合在蚀刻边缘位点,而不是基面,因此不会损伤沟道本征导电性。

阈值能调到反转

通过掺杂导致的局部电子耗尽,器件的阈值电压正向移动,甚至从n型完全转为p型。

掺杂幅度靠时间

蚀刻时间直接决定电子耗尽程度,为器件电学性能提供确定性调节手段。

应用场景