单晶GaN薄膜

非晶衬底上外延

利用WS₂作为二维材料缓冲层,在非晶衬底上实现了单晶GaN薄膜的外延生长,突破了传统外延对单晶衬底的依赖。

Chen, Qi · Kailai, Yang · Shi, Bo · 伊晓燕 · 王军喜 · 李晋闽 · 刘志强

Advanced Materials 2023

技术优势

突破衬底限制

通过在非晶衬底上使用WS₂作为缓冲层,实现了单晶GaN薄膜的外延生长,不再依赖传统单晶衬底。

界面可调控

氮化物/二维材料界面的原子相互作用与衬底性质相关:单晶衬底上表现为共价键界面,非晶衬底上表现为范德华界面,这为生长front的构建提供了策略。

实现异质集成

该策略为多种半导体的异质集成开辟了途径,可望在不同衬底上集成GaN基器件与其他材料体系。

应用场景