GQDs掺杂InGaO薄膜晶体管

阈值电压漂移仅0.04V

石墨烯量子点掺杂的溶液法InGaO TFT,在偏压和光照应力下阈值电压漂移极小,同时保持高迁移率和低亚阈值摆幅,适合低功耗显示与传感。

Xu, Xiaofen · 何刚 · Wang, Leini · Wang, Wenhao · Wu, Xiaoyu

Rare Metals 2023

具体参数

场效应迁移率
{'zh': '22.02', 'en': '22.02'} cm²·V⁻¹·s⁻¹
开关比
{'zh': '7.06 × 10⁷', 'en': '7.06 × 10⁷'}
亚阈值摆幅
{'zh': '0.09', 'en': '0.09'} V·dec⁻¹
阈值电压漂移
{'zh': '0.04', 'en': '0.04'} V

技术优势

迁移率大幅提升

0.3 mg·ml⁻¹ GQDs掺杂优化了薄膜的载流子传输,迁移率达22.02 cm²·V⁻¹·s⁻¹。

应力下电压漂移极小

负偏压应力3600 s后阈值电压仅漂移0.04 V,稳定性出色。

开关比高

开关电流比达7.06 × 10⁷,适合低功耗逻辑应用。

亚阈值特性陡

亚阈值摆幅仅0.09 V·dec⁻¹,器件开关速度快。

应用场景