双面工艺垂直互补场效应管

集成反相器增益13 V/V

一种采用双面工艺单片集成的互补垂直场效应晶体管,实现了性能平衡的CMOS反相器。

Du, Yong · 张永奎 · 朱慧珑 · Binghui, Wang · 王琪 · Wenliang, Liu · Wang, Zhengchao · Luo T.R. · Lu, Shunshun · Sun P.H. · Chen X.Y. · Yantong, Zheng · 杨红 · Li, Junjie · 李峻峰 · 王晓磊 · 罗军 · 王文武 · Dai B.W. · 叶甜春

IEEE Electron Device Letters 2025

参数信息

NMOS跨导
69 μS/μm
PMOS跨导
592 μS/μm
反相器增益
13 V/V
NMOS开态电流
18 μA/μm
PMOS开态电流
136 μA/μm
NMOS开关比
3.1e6
PMOS开关比
5.4e6
NMOS亚阈值摆幅
69 mV/dec

技术优势

单片互补集成

通过双面工艺在同一衬底上实现NMOS和PMOS垂直场效应管,无需分别制造后再键合。

高增益反相器

反相器电压增益达13 V/V(VDD=1.2 V),表明器件具有陡峭的电压传输特性。

自对准高κ栅

采用自对准高κ金属栅工艺,有助于减小寄生电容和栅泄漏,提升器件性能。

应用场景