钴基合金光化射流抛光

去除率高两成

用紫外光先弱化表面再脉冲射流去除，抛光钴基合金时材料去除率与表面质量同步提升。

葛江勤 · Zan, Zhang · Yuheng, Lin · Xin, Chen · 李运堂 · 李孝禄 · Kengqing, Xu

Tribology International 2025

参数信息

材料去除率提升幅度

20 %

表面粗糙度改善率

33.9 %

维氏硬度下降幅度

10 %

技术优势

降低切削阻力

光化学反应在工件表面生成弱化层，使维氏硬度下降超过10%，材料去除率提高约20%。

表面更光洁

在提高去除率的同时，表面粗糙度改善率约33.9%，实现高效与高质量兼顾。

应用场景

• 钴基合金抛光：专攻钴基合金难加工表面，替代传统机械抛光并提升去除效率。
• 精密抛光加工：适用于高精度要求的抛光场景，在提高去除率的同时控制表面质量。
• 表面粗糙度控制：在提高去除率的同时改善表面粗糙度，满足光洁度指标。
• 微纳制造抛光：结合光化学弱化与射流冲击，可用于微纳尺度表面加工。