亚50纳米石墨光栅

超高均匀性

水浸飞秒激光在石墨表面稳定制备深亚波长周期光栅，沟槽宽度近10纳米，结构完整均匀。

Qingyu, Li · Feng, Zhou · 黄民 · ORecord 科技单元

International Journal of Extreme Manufacturing 2026

具体参数

光栅周期
{'zh': '<50', 'en': '<50'} nm
沟槽宽度
{'zh': '~10', 'en': '~10'} nm

技术优势

周期小于50纳米

水浸飞秒激光加工在石墨上获得了远低于100纳米的结构周期，突破了传统LIPSS的深亚波长尺寸瓶颈。

沟槽仅约10纳米

光栅沟槽宽度接近10纳米，实现了极高的结构精度和深宽比，适用于需要极小特征尺寸的应用。

大面积超均匀光栅

水浸加工抑制了热效应和碎屑，使得光栅在大面积上保持表面平坦、周期稳定和结构完整，适用于大面积拼接。

工艺简单一步完成

仅需在液体环境中进行激光扫描，无需复杂的真空系统或后处理步骤，具有高商业化潜力。

应用场景