侧蚀法柔性透明铜电路

线宽 2.4 μm

一反常规利用侧蚀现象，实现了远超掩模分辨率的高密度铜基电路制造。

Houchao, Zhang · Junjie, Liu · 朱晓阳 · Youchao, Zhang · Li H. · Li, Zhenghao · Rui, Wang · 张广明 · 兰红波 · 张广明

Journal of Manufacturing Processes 2024

参数信息

最小线宽

2.4 μm

最小线距

4 μm

电阻率

4 × 10⁻⁶ Ω·cm

方阻

3.58 Ω/sq

透光率

87.65 %

最低检测浓度

1 nmol/L

技术优势

线宽突破掩模限制

EFD微喷印掩模的分辨率通常在数十微米级，侧蚀工艺可在掩模开口基础上进一步减细线条，最终实现2.4 μm线宽。

高透光率下保持导电

在含基板透光率高达87.65%时，方阻仍低至3.58 Ω/sq，兼顾光学透过与电学性能。

高灵敏离子检测

所制叉指电极在100–10,000 Hz频率下，最低可检测1 nmol/L稀硫酸浓度变化，灵敏度优异。

应用场景

• 柔性透明电子：提供高透光、高导电的微细线路，可替代传统氧化铟锡（ITO）透明导电膜。
• 可穿戴设备：铜电路抗弯折、贴合性好，可用作穿戴传感器中的互连或电极。
• 5G/6G柔性透明天线：高密度布线和大面积透明特性满足毫米波天线对低损耗、轻量化的需求。
• 高灵敏生化传感器：叉指电极可在宽频范围检出痕量离子，适于便携式液体成分检测。