飞秒激光烧蚀金膜

等离子体屏蔽可控

通过调节脉冲间隔时间减弱等离子体屏蔽效应，提升飞秒激光加工精度与效率。

Zhiqiang, He · Donghan, Yang · Mengya, Zhang · Jibang, Liao · Liu, Yi · 李玲

Applied Physics A: Materials Science and Processing 2024

参数信息

反射率

0.293

吸收系数

180 μm⁻¹

等离子体吸收率

30 %

能量密度范围

2500–15000 J/m²

技术优势

模型耦合蒸发与屏蔽

通过界面追踪实现蒸发效应，将等离子体膨胀动力学与电子源项耦合刻画屏蔽，完整描述物理过程。

脉冲间隔可调屏蔽

通过控制脉冲间隔时间可以减弱等离子体对激光辐照金膜的影响，为工艺优化提供直接手段。

应用场景

• 超快激光加工：优化脉冲间隔以抑制屏蔽，提升烧蚀精度。
• 微纳制造：获得更可控的金膜微纳结构加工能力。
• 精密加工：通过调控屏蔽提高加工效率与尺寸精度。