时间脉冲串SiC切片激光

双边损耗<15 µm

通过时间脉冲串调制抑制自聚焦效应,实现碳化硅晶圆的低损耗、低粗糙度、易于分离的激光切片,切片表面粗糙度低且可快速剥离。

吕静 · Jiayi, Yue · Jialu, Gao · Jiaqi, Qiu · Zhenqiang, Zhang · 汤奥斐 · 程光华 · Zhongyin, Zhang · 王雪文 · Wang, Rujia · 李淑娟

Optics and Laser Technology 2026

参数信息

双边材料损耗
<15 µm
切片表面粗糙度Sa
169 nm
剩余晶圆表面粗糙度Sa
120 nm
整体光学透过率
75 %
分离时间
<1 min
子脉冲数量范围
1-16

技术优势

切片损耗低

采用8个及以上子脉冲时,双边材料损耗可控制在15 µm以下,减少晶圆浪费。

表面平整

切片表面粗糙度Sa低至169 nm,剩余晶圆表面Sa约120 nm,有利于后续加工。

快速分离

可在1分钟内通过超声清洗或即时剥离实现晶圆分离,缩短加工时间。

低光学损耗

切片表面整体光学透过率约75%,表明光吸收和散射损失较低。

应用场景