InGaN/GaN微带LED

硅基垂直注入

通过电化学剥离获得自支撑微带,低温直接键合至硅衬底,实现片上垂直注入蓝光LED。

王辉 · Peishan, Li · Zexin, Dong · Yang, Yuqing · Huan, Chang · He, Chenguang · Wang, Qiao · 陈志涛 · Zhang, Kang · 王幸福

Journal of Materials Chemistry C 2024

参数信息

发射波长
465 nm
界面非晶层厚度
25 nm

技术优势

避开外延难题

采用电化学剥离获得自支撑InGaN/GaN微带,再通过直接键合转移到硅上,避免了直接在硅上生长氮化物的困难。

工艺简单低成本

整个流程仅包含电化学剥离和直接键合,无需复杂外延设备,为III-V器件在硅上的集成提供了低成本方案。

垂直注入结构

利用高导电硅衬底和微带形成垂直注入结构,载流子直接纵向注入有源区,有利于提高电流均匀性和发光效率。

波导定向出光

微带端面发射465 nm光,具有单向波导特性,光从端面定向输出,有利于与波导或光纤耦合。

应用场景