星形拓扑聚酰亚胺

200 °C 高能效

通过星形拓扑引入深陷阱并稳定电极界面,在200 °C下仍保持高储能密度和效率,远超纯聚酰亚胺。

Manqing, Zhao · Wang, Yan · Bin, Xie · Tengbin, Yi · 白秋红 · 赵航 · Wang, Yang · Zhang, Luwei · Zhi-Min, Dang · 申烨华

Chemical Engineering Journal 2026

参数信息

储能密度
5.39 J cm⁻³
充放电效率
94 %
储能密度(高温)
3.29 J cm⁻³
充放电效率(高温)
78.41 %
拓扑比例范围
0–2.5 %

技术优势

深陷阱抑制漏电

星形拓扑结构引入深能级陷阱,捕获载流子,从而大幅降低高温下的传导损耗。

界面稳定防击穿

星形结构稳定了 Ag/介质界面,减少电荷注入,有助于提高击穿强度和循环稳定性。

200 °C 仍有高能效

在 200 °C 下仍能保持 3.29 J cm⁻³ 的储能密度和 78.41% 的充放电效率,远超纯 PI 的表现。

合成路径简便

通过自动筛选工作流确定三聚氰胺为最佳拓扑中心,并实现拓扑比例可控(0–2.5%),且三聚氰胺廉价易得,便于规模化制备。

应用场景