负氢离子源

密度提升五倍

脉冲调制放电使H⁻密度提升五倍，并在0.4 Pa低压下超过连续放电在0.8 Pa下的表现，有望降低共引出电子并减少离子损失。

Siyu, Xing · 高菲 · 张玉茹 · Zhao, Mingliang · Zhao, Miao · 雷光玖 · 王友年

Plasma Sources Science and Technology 2025

参数信息

占空

30 %

密度

0.8 Pa

技术优势

低压操作可减少共引出电子并降低H⁻在引出过程中的破坏