铯化钼(001)表面

Li, Heng; Zhang, Xin; Xu, Yuhong; Lei, Guangjiu; Liu, Sanqiu; Tsumori, Katsuyoshi; Nakano, Haruhisa; Osakabe, Masaki; Isobe, Mitsutaka; Shoichi, Okamura; Shimizu, Akihiro; Ogawa, Kunihiro; Takahashi, H.; Cui, Zilin; Hu, Jun; Zhu, Yiqin; Xiaolong, Li; Huaqing, Zheng; Xiaoqiao, Liu; Geng, Shaofei; Chen, Xiaochang; Liu, Haifeng; Wang, Xiangqu; Haifeng, Liu; Tang, Changjian; Team, Cfqs

铯化钼(001)表面

功函数可调低至1.1 eV

通过共沉积H或O杂质并控制覆盖度，该表面能显著降低功函数并提升铯的吸附稳定性，为高效负氢离子源提供关键表面。

Li, Heng · 张辛 · 许宇鸿 · 雷光玖 · 刘三秋 · Tsumori, Katsuyoshi · Nakano, Haruhisa · Osakabe, Masaki · Isobe, Mitsutaka · Shoichi, Okamura · Shimizu, Akihiro · Ogawa, Kunihiro · Takahashi, H. · Cui, Zilin · 胡军 · Zhu, Yiqin · Xiaolong, Li · Huaqing, Zheng · Xiaoqiao, Liu · 耿少飞 · 陈小昌 · 刘海风 · Wang, Xiangqu · Haifeng, Liu · 唐昌建 · Team, Cfqs

Nuclear Materials and Energy 2023

具体参数

平均吸附能提高: {'zh': '约0.36', 'en': '~0.36'} eV

技术优势

0.5 ML Cs覆盖度时功函数最低

功函数随表面偶极矩密度反向变化