TiN薄膜

入射能量调控生长

通过调控入射能量，实现了TiN薄膜从岛状生长向层状生长的转变，从而获得更连续、完整且表面粗糙度更低的薄膜。

Jiao, Li · 林军 · Ma, Qingyuan · Hanxiao, Luan · 朱立华 · Bai, Ruqing · Guiwei, Dong · 王佃刚 · Yanjin, Guan · Xiaocui, Zhang

Coatings 2023

技术优势

能长出连续膜

提高入射能量可促使原子非热扩散填补空位，使TiN薄膜从岛状生长转变为层状生长，形成更连续、完整的薄膜。

表面更平整

随着入射能量提高，沉积表面原子振动加剧，部分原子跳跃引起非热扩散，持续降低薄膜表面粗糙度。

应用场景

• 硬质涂层：作为TiN硬质涂层，通过调控入射能量获得连续完整、表面光滑的涂层，提升耐磨性和使用寿命。
• 表面工程：在表面工程中，利用入射能量控制薄膜生长模式，可优化TiN涂层的表面质量，减少缺陷并降低粗糙度。
• 半导体制造：在半导体制造中，通过选择适当的入射能量沉积TiN薄膜，可获得均匀连续的阻挡层或电极材料，减少缺陷。
• 切削刀具涂层：作为切削刀具涂层，利用较高入射能量沉积的TiN薄膜更致密、表面更光滑，可提高刀具耐用度和加工质量。