铯沉积表面

Li, Heng; Zhang, Xin; Xu, Yuhong; Lei, Guangjiu; Liu, Sanqiu; Tsumori, Katsuyoshi; Nakano, Haruhisa; Osakabe, Masaki; Isobe, Mitsutaka; Shoichi, Okamura; Shimizu, Akihiro; Ogawa, Kunihiro; Takahashi, H.; Cui, Zilin; Hu, Jun; Zhu, Yiqin; Xiaolong, Li; Huaqing, Zheng; Xiaoqiao, Liu; Geng, Shaofei; Chen, Xiaochang; Liu, Haifeng; Xianqu, Wang; Liu, Hai; Tang C.J.; Team, Cfqs

铯沉积表面

杂质降功函数

氧或铜杂质在特定覆盖度下可将铯氢钼表面的功函数降低至接近铯金属的水平，铜原子穿越铯层仅需0.09 eV。

李亨 · 张辛 · 许宇鸿 · 雷光玖 · 刘三秋 · Tsumori, Katsuyoshi · Nakano, Haruhisa · Osakabe, Masaki · Isobe, Mitsutaka · Shoichi, Okamura · Shimizu, Akihiro · Ogawa, Kunihiro · Takahashi, H. · Cui, Zilin · Hu, Jun · Zhu, Yiqin · Xiaolong, Li · Huaqing, Zheng · Xiaoqiao, Liu · 耿少飞 · 陈小昌 · 刘海峰 · Xianqu, Wang · 刘海 · Tang C.J. · Team, Cfqs

Nuclear Materials and Energy 2024

具体参数

铜原子穿越铯层势垒最低: {'zh': '0.09', 'en': ''} eV

技术优势

杂质覆盖度≤8/16 θ时有效降低功函数

铯覆盖度达16/16 θ时功函数接近铯金属表面

氧杂质沉积在铯层上方时可观测到功函数降低