氮氧双掺杂多孔碳

碗状结构促进扩散

通过低温热解与碱蚀刻活化,成功将高含量吡咯氮(4.6 at.%)与氧(15.9 at.%)保留在碗状微孔碳中,实现高赝电容与优异的扩散动力学。

Wang, Junyan · Xinta, Li · 郭万春 · 田克松 · Jiamin, Zhang · Bosen, Zhang · 李雪爱 · 王海艳

Journal of Materials Science and Technology 2023

参数信息

比电容
486.4 F g⁻¹
吡咯氮含量
4.6 at.%
氧含量
15.9 at.%

技术优势

保留高含量活性杂原子

低温热处理策略避免了高温导致的杂原子损失和构型转变,吡咯氮达 4.6 at.%,氧达 15.9 at.%,可提供赝电容。

扩散路径被缩短

碗状结构通过 KOH 刻蚀去除不稳定微区形成,极大促进电解液离子扩散。

赝电容贡献大

高含量氮/氧物种直接贡献赝电容,使材料在 1 A g⁻¹ 下比电容达到 486.4 F g⁻¹。

应用场景