过电位仅258 mV
通过化学剪切技术精确调控双金属MOF的孔结构和形貌,显著降低氧析出反应能垒,大幅提升电催化效率。
Tian, Yuan · 陈勇强 · Yang, Guoli · Zhao-Hui, Guo · Li, Kai · 武海鹏
Journal of Solid State Chemistry 2025
化学剪切构建的分级多孔结构和调制的d带中心优化了OER中间体的吸附,使达到10 mA cm⁻²的过电位低至258 mV。
低Tafel斜率表明反应动力学快,电荷转移动力学得到改善,有利于高效析氧。
在操作条件下性能保持35小时以上,展现了催化剂的长期稳定性。