HCl蚀刻Pt₃Ni纳米晶

高指数面析氧

通过HCl蚀刻在Pt₃Ni表面形成不饱和台阶原子,构建高指数晶面,显著提升氧还原反应活性。

Sun, Lian · 王红磊 · Ma, Ming · Tingting, Cao · Leilei, Zhang · 周新贵

Chinese Chemical Letters 2024

参数信息

质量活性
10.8 ×
比活性
11.3 ×
循环耐久性
10000 cycles

技术优势

活性高一个量级

高指数晶面提供高活性位点,使ORR质量活性比商业Pt/C高约10.8倍,比活性高约11.3倍。

耐久性也过关

在10,000次循环测试后仍保持良好的ORR活性,表明其稳定性满足应用要求。

蚀刻只对Pt₃Ni有效

理论计算表明Cl⁻在Pt₃Ni表面吸附更强,阻碍新还原原子沉积,从而调控形貌;Pt和Pt₃Co则保持八面体形貌,难以形成高指数晶面。

应用场景