Ni-Fe合金多级碳网络

析氧过电位低至165 mV

化学发酵造孔形成独特的一维棒阵列@二维交错片多级网络,原位负载Ni-Fe纳米颗粒,具有丰富活性位点和畅通的传质通道,大幅提升析氧电催化性能。

Kang, Qiaoling · Su, Mengfei · Wang, Ting · Gao F. · 陆轻铱

Nano-Micro Letters 2025

参数信息

析氧过电位
165 mV
稳定性
90 h

技术优势

过电位极低

在10 mA cm⁻²下仅需165 mV过电位,优于多数已报道的Ni-Fe基催化剂,可显著降低电解能耗。

长时间稳定

连续运行超过90小时仍保持性能,表明催化剂在严苛析氧环境下结构稳定,不易衰减。

造孔不用模板

通过化学发酵产生的气体自发形成纳米孔,避免传统模板法所需的刻蚀步骤,简化制备流程。

孔道连通传质快

多级网络提供纳米级、相互交联且自由流动的通道,有利于电解液渗透和反应物/产物扩散。

应用场景