臭氧氧化隧穿氧化层

界面态密度显著降低

一种采用臭氧气体氧化工艺制备的隧穿氧化硅层,相比等离子体辅助氧化,其界面态密度显著降低,SiO₂占比更高,适用于n型TOPCon太阳能电池的高质量钝化接触。

Yang, Lei · Ou, Yali · Xiang, Lv · Lin, Na · 曾俞衡 · Hu, Zechen · 原帅 · 叶继春 · 余学功 · 杨德仁

Energy and Environmental Materials 2024

参数信息

界面态密度
1.2 × 10¹²–3.6 × 10¹² cm⁻² eV⁻¹

技术优势

界面态密度显著降低

OGO 隧穿氧化层的界面态密度为 1.2 × 10¹²–3.6 × 10¹² cm⁻² eV⁻¹,显著低于 PANO 样品,有利于减少载流子复合,提升钝化效果。

氧化层更接近纯 SiO₂

XPS 显示 OGO 氧化层中 Si⁴⁺(即 SiO₂)占比高于 PANO,说明氧化更充分,从根源上抑制低价硅氧化物缺陷态。

适合在线量产

该工艺为在线臭氧气体氧化,与现有光伏生产线兼容,无需离线处理,可降低制造成本并提高产能。

应用场景