大面积基片 ±3 K 温差
面向大型分子束外延系统的双温区加热器架构，通过多层隔热与反射板设计，实现大面积基片在高温和超高真空环境下的高均匀性热控，优于传统单温区加热器。
Wu, Yongshuan · Wenli, Lv · Fengwu, Chen · 76747540 · Xin, Gong · 李军辉
International Journal of Mechanical Sciences 2025
在 983 K 目标温度下，基片温差维持在 ±3 K 以内。
建立了预测模型，将几何参数与热均匀性联系起来，实现结构优化。
仿真与实验最大偏差仅 2.4 K，验证了多物理场耦合模型的可靠性。