高精度微透镜阵列

面形误差<2.8%

采用掩模移动光刻与倒置气浴回流工艺，有效降低面形误差并实现纳米级表面粗糙度，提升光学系统集成与性能。

Gong, Jianwen · 周纪 · 刘俊伯 · 胡松 · 汪建 · 孙海丰

Micromachines 2024

参数信息

面形均方根误差小于

2.8 %

技术优势

表面粗糙度可达纳米级