p型NiO互连层

高透明低接触电阻

通过调控氧空位实现高载流子浓度和低近红外吸收,适配钙钛矿/硅叠层电池的p型透明导电互连。

Yuhao, Yin · Shitao, Dong · Yu, Zhu · 崔义 · 宋贺伦 · Xu, Menglei · Yang, Jie · Xinyu, Zhang · Fan, Shizhao

Surfaces and Interfaces 2026

参数信息

空穴浓度
1.68 10^18 cm^-3
光学吸收(800 nm)
3 %
比接触电阻
0.93 Ω·cm^2
受主激活能
0.23 eV

技术优势

透光高吸收低

20 nm厚的NiO薄膜在800 nm处吸收小于3%,减少了对硅底电池的近红外光遮挡,利于提高叠层电池电流。

空穴浓度高

通过调控Ni空位和Ni3+/Ni2+比例,实现1.68×10^18 cm^-3的空穴浓度,保证p型层足够的电导率。

接触电阻低

通过亚单层Au引入缺陷辅助隧穿,p+-NiO/n+-Si异质结的比接触电阻降至0.93 Ω·cm^2,显著降低界面损耗。

与TOPCon兼容

将该隧穿二极管与TOPCon硅电池集成时填充因子损失可忽略,证明其在高效叠层电池中的可行性。

应用场景