多光束选区激光熔化工艺

表面粗糙度最低3.4μm

该工艺通过优化多光束扫描策略显著降低连接区热应力,改善熔道连续性和表面质量,适用于大尺寸金属零件的快速高精度制造。

Zhaojie, Chu · Hanxu, Wang · Wang, Shuai · 惠记庄 · Wang, Junjie · Yan, Zhiqiang

Optics and Laser Technology 2026

参数信息

表面粗糙度
3.439 μm
表面粗糙度
3.741 μm
表面粗糙度
4.62 μm

技术优势

熔道更连续

双光束策略C和E下熔道光滑连续,减少飞溅和孔隙,提升表面质量。

表面粗糙度更低

双光束策略E的粗糙度仅3.439 μm,四光束环形策略L为4.62 μm,优于其他扫描策略。

模型已校准

模拟预测的Z向残余应力与实验测量值吻合,模型可用于工艺优化。

应用场景