纹理中空抛光工具

亚纳米级表面粗糙度

通过流场优化的纹理中空结构提高抛光液更新效率，实现CaF₂超精密抛光。

He, Xiangbo · Lei, Yang · Kai, Zhang · Ruirui, Li · 彭云峰

Journal of Manufacturing Processes 2024

参数信息

表面粗糙度

5.9 nm

材料去除模型相对误差

8.36 %

技术优势

提高抛光液更新率

纹理中空结构促进抛光液流动，加快更新，提高抛光效率。

抛光模型准确

基于Preston方程构建的材料去除模型，实验验证相对误差仅8.36%。

应用场景

• 超精密加工：提供亚纳米级表面，提升加工精度。
• 光学元件制造：抛光CaF₂等光学晶体，降低表面粗糙度。
• 精密抛光：优化抛光液流动，提高抛光效率。