稀PtRh合金催化剂

低过电位

掺入少量Rh调谐Pt的d带中心,降低氨氧化过电位并减轻表面毒化。

Haasch, Richard T. · Gupta, J. K. · Reynolds, Michael A. · 张焜 · Kenis, Paul J.A. · Gewirth, Andrew A.

ACS Applied Materials & Interfaces 2025

参数信息

氨氧化过电位
0.41 V vs RHE
合金组成
Pt92Rh8

技术优势

过电位更低

掺入8% Rh将d带中心移至费米能级附近,调谐了中间体吸附能,氨氧化活性更高。

抗表面毒化

反应后Pt92Rh8表面氧化程度比纯Pt轻,减少了含氧物种对活性位点的阻塞。

一步电沉积合成

催化剂通过电沉积直接制备,无需复杂后处理,便于集成到电极上。

应用场景