微米级Hf₀.₅Zr₀.₅O₂薄膜电容器

介电常数超高

通过近边缘等离子体处理与特定相变,无需高场循环即可获得超高介电常数,适用于高密度电荷存储与超缩微逻辑/存储器件。

狄文 · 李冰 · Wei-wei, Wang · 王亚 · 成岩 · 江安全

Nano-Micro Letters 2025

参数信息

介电常数
1466
存储电荷密度
183 μC cm⁻²

技术优势

介电常数激增30倍

在双极高电场循环接近击穿时,经过氧空位有序化和铁电-非铁电相变,介电常数突然增加30倍。

无需高场循环即可获得高介电常数

在电容器直径缩小至3.85 μm时,无需高电场循环,铁电性突然消失,介电常数高达1466。

高存储电荷密度且耐循环

在1.2 V/50 ns的电压/时间条件下,循环次数超过10¹²次仍未发生介电击穿,存储电荷密度高达183 μC cm⁻²。

应用场景