抑制粉化开裂
碳包覆层诱导致密LiF-rich SEI,高强度界面膜在硅锂化/去锂化过程中保持完整,有效抑制电极开裂和电解液持续分解。
Wang, Xuyang · 李英芝 · Wang, Xinyang · Gan, Qingmeng · Zhenyu, Wang · Liao, Kemeng · Wu, Sisi · Guo, Hao · Jiangyu, Li · 黄博远 · 卢周广
Journal of Materials Chemistry A 2023
增强的SEI能够承受硅锂化/去锂化时的体积变化并保持自身完整,从而防止硅颗粒破裂。
完整的SEI阻止了电解液与电极的持续接触,抑制了电解液的持续分解。
DFT计算表明FEC在碳包覆层表面的吸附能高于在硅表面,解释了LiF富集SEI形成的原因。