末端原子控制刻蚀的二维TMD孔阵列

原子级孔阵列

通过调控刻蚀气氛在二维TMD上可控构建具有特定末端原子的纳米孔阵列，为二维材料图案化和功能化提供新途径。

Huang, Ziwei · 邓卫 · Zhang, Zhengwei · Zhao, Bei · Zhang, Hongmei · Wang, Di · Li, Bailing · Liu, Miaomiao · Huangfu, Ying · 段曦东

Advanced Materials 2023

技术优势

三角刻蚀孔阵列终止于W-ZZ边缘（Ar/H₂气氛）

六方刻蚀孔阵列交替终止于W-ZZ边缘和S-ZZ（Se-ZZ）边缘（纯Ar气氛）

三角刻蚀孔阵列终止于S-ZZ（Se-ZZ）边缘（Ar/硫（硒）蒸气气氛）