电晕放电辅助抛光液

粗糙度降至25.75 nm

一种结合剪切增稠与电晕放电的抛光液，通过静电排斥抑制磨粒团聚，提升表面质量。

姚蔚峰 · Zhan, Chen · Lyu, Binghai · 江亮 · 张丽慧

International Journal of Mechanical Sciences 2025

参数信息

表面粗糙度

25.75 nm

初始表面粗糙度

123.70 nm

技术优势

抑制磨粒团聚

电晕放电使抛光液带电，磨粒间同种电荷相互排斥，阻止团聚，从而减小表面粗糙度偏差。

实现韧性去除

在非牛顿弹流动力压力下，抛光液膜形成柔性磨具，有利于韧性去除，改善表面质量并减少裂纹。

表面裂纹少

韧性去除机制避免脆性断裂，抛光后工件表面裂纹少，表面完整性好。

应用场景

• 陶瓷轴承加工：用于陶瓷轴承滚子抛光，获得低粗糙度和少裂纹表面。
• 精密抛光：作为精密抛光方法，实现纳米级表面粗糙度。
• 航空航天陶瓷部件：适用于航空航天陶瓷部件的表面光整，减少裂纹。
• 先进陶瓷加工：为先进陶瓷提供一种结合剪切增稠和静电效应的抛光技术。