AlN/GaN异质结

压应变传输性能提升一个数量级

可通过厚度与双轴应变调控带隙及载流子传输,为设计高性能氮化物异质结器件提供依据。

Lei, Qianjin · 楼海君 · 朱林利

Applied Physics A: Materials Science and Processing 2025

参数信息

输运性能提升
10 ×
最小带隙
-0.387 eV
原子层最小带隙
0.3 eV

技术优势

带隙可调

只需改变异质结厚度,就能实现从半导体到金属的带隙调控,覆盖不同器件对能带结构的要求。

传输性能应变增强

-8%压应变下,传输性能提升一个数量级,为通过应力工程提高器件电导率提供了途径。

原子层保持带隙

即使整体发生半导体-金属转变,各原子层在态密度中仍保持至少0.3 eV的带隙,说明二维电子气形成时不会完全关闭局域能隙。

应用场景