螺旋磁流变抛光工具

表面粗糙度降至0.251 nm

通过螺旋运动扰乱定向纹理，实现超光滑表面，突破传统磁流变抛光的定向划痕限制。

Wang, Bo · 宋辞 · 石峰 · Zhang, Wanli · Peng, Xing · 铁贵鹏 · Qiao, Shuo

Journal of Manufacturing Processes 2025

参数信息

表面粗糙度

0.251 nm

技术优势

消除方向性纹理

螺旋运动使磨粒划擦方向不断改变，打乱定向纹理，从而降低表面粗糙度。

获得超光滑表面

在螺旋角20°时表面粗糙度仅为0.251 nm，达到超光滑水平。

应用场景

• 超精密加工：替代传统抛光，获得亚纳米级表面。
• 光学表面抛光：消除光学表面的方向性纹理，提高成像质量。
• 精密陶瓷抛光：适用于硬脆陶瓷，实现超光滑抛光。