富N-H分子修饰Cu催化剂

C₂法拉第效率85.7%

通过促进水活化实现高效不对称C–C偶联,显著提升CO₂还原制乙烯和乙醇的选择性。

Zi-Yu, Du · Li, Si · Liang, Ge · 谢怡 · Yao-Lin, A. · 张翼 · Zhang, Hua · Shisheng, Zheng · 郑青 · 陈洲 · Ip, Weng Fai · 刘进轩 · 李剑锋

Journal of the American Chemical Society 2024

具体参数

C₂产物法拉第效率
{'zh': '85.7', 'en': '85.7'} %
电流密度
{'zh': '800', 'en': '800'} mA cm⁻²
C₂法拉第效率提升(与未修饰催化剂相比)
{'zh': '30', 'en': '30'} %

技术优势

C₂选择性大幅提升

富N-H分子促进水分子解离,产生氢物种加速*CO转化为*CHO,实现不对称*CHO-*CO偶联,C₂法拉第效率比未修饰催化剂提高约30%。

高电流密度下性能优异

在800 mA cm⁻²电流密度下,C₂产物法拉第效率仍达85.7%,并保持优异的稳定性,接近工业应用条件。

产物选择性可切换

通过调节Cu晶面调控*CHO/*CO相对覆盖度,可在C₂产物和CH₄之间完全切换选择性,实现同一催化剂体系下的产物调控。

应用场景