高利用率下抗枝晶
背面涂层而非表面涂层,通过缓解应力集中、加速散热和电子传输提升高放电深度下的循环稳定性。
Gao, Yong · Bu, Fan · Cao, Qinghe · Yang, Jiayu · Wang, Yuxuan · Jipeng, Chen · Liu, Xiangye · 官操
Advanced Materials 2024
85.5% Zn利用率下稳定循环334 h
N/P比低至1.44