自场临界电流密度提升1.4倍
通过调谐Cu含量调控Bi-2212与Bi-2234共生层密度,实现Bi-2223相体积分数高达97.5%,显著提升自场临界电流密度。
Cao, Hao · 张胜楠 · 崔雅茹 · Yiming, Wang · Lei, Zhi · Shao, Botao · Liu, Xueqian · 刘吉星 · Chengshan, Li · 李建峰 · 张平祥
Ceramics International 2025
0% Cu添加样品在高磁场下磁通钉扎力约10⁹ N/m³(4.2 K,10 K,20 K)