折射率灵敏度提升4倍
侧抛工艺增强倏逝场，打破传统光栅制备限制，实现高灵敏折射率、湿度与矢量弯曲传感。
Li, Houchang · 刘娟 · 何兴道 · 苑金辉 · Wu, Qiang · 刘彬
IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement 2023
得益于侧抛增强倏逝场，折射率灵敏度达到466.85 nm/RIU，是传统电弧法制备光栅的4倍。
侧抛打破截面光场对称性，在0-19.67 m⁻¹范围内实现同向/反向弯曲区分，平均灵敏度5.03和-5.9 nm/m⁻¹。
涂覆氧化石墨烯纳米膜后，湿度灵敏度-0.193 nm/%RH，范围40-80% RH，无需额外传感器。