MPA修饰HgTe量子点

分散性提升近25%

以HgI₂为汞前驱体并经MPA配体处理，有效抑制HgTe量子点团聚，提升分散稳定性，进而显著改善其光电响应特性。

79624950 · 79624951 · Chuantong, Cheng · Zhaowei, Zhu · 79624952 · Li, Yuehua · Huang, Liting · Zhang, Bao · 张旭

Journal of Alloys and Compounds 2026

参数信息

水合粒径

135 nm

技术优势

分散更稳定

MPA处理后，水合粒径从约180 nm降到约135 nm，颗粒团聚受到抑制。

器件响应更强

MPA处理的量子点光导器件表现出更高的开关比和响应度，电荷传输更高效。

应用场景

• 红外探测器：用分散性好的量子点制备光导器件，开关比和响应度更高。
• 短波红外成像：稳定的胶体分散液可直接旋涂或滴铸成膜，适合短波红外成像。
• 量子点传感器：表面配体稳定，减少复合损失，提升量子点传感器信号。
• 纳米光电器件：无需配体交换即可用于器件制备，简化纳米光电器件工艺。